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中文全称

巯基硅烷（MPTMS）表面修饰氧化铈 @介孔二氧化硅纳米复合材料 简写：巯基修饰 CeO₂@介孔硅、CeO₂@mSiO₂-SH

英文全称

Mercaptopropyltrimethoxysilane modified CeO₂@mesoporous silica nanoparticles 缩写：CeO₂@mSiO₂-MPTMS

用 MPTMS（3-巯基丙基三甲氧基硅烷）对 CeO₂@mSiO₂（介孔二氧化硅包覆氧化铈核壳纳米粒子）进行巯基表面修饰，原理与介孔二氧化硅巯基功能化相同——MPTMS 水解后与 mSiO₂ 壳层表面的硅羟基（Si–OH）缩合，将 –SH 基团接枝到颗粒外表面及孔道内壁上。CeO₂ 核通常被 mSiO₂ 包裹，MPTMS 主要修饰在外层介孔硅上。

产地：陕西星贝爱科生物
外观： 红色或酒红色透明分散液
粒径范围： 按需定制
分散介质： 去离子水或缓冲液
保存条件：4度避光储存

嫁接（Post-grafting）操作步骤：

以下为实验室常用醇/水相或甲苯相接枝法：

1. 预处理 CeO₂@mSiO₂

• 将已合成、煅烧除模板（CTAB 等）的 CeO₂@mSiO₂ 粉末在100～110℃ 真空干燥 6～12 h，彻底除去吸附水，防止 MPTMS 过早水解或副反应。

2. 分散与加 MPTMS

• 将干燥粉末（如 0.2～0.5 g）分散于无水甲苯或无水乙醇（50～100 mL），超声 10～20 min 使之均匀分散。

• 按 MPTMS∶载体 ≈0.5～2 mL/g（载体）​ 加入 MPTMS（通常 1～5 vol% 相对于溶剂），可加少量水（痕量）促进水解，或预先将 MPTMS 用少量酸水（pH≈4～5）预水解 15～30 min 再混入。

3. 回流接枝反应

• 甲苯体系：N₂ 保护下 60～80℃ 回流搅拌6～24 h。

• 乙醇/水体系（较温和）：室温或 50～60℃ 搅拌6～12 h，注意控制水量勿过多以免 MPTMS 自身缩合。

• 避光或棕色瓶操作更好，–SH 易被空气氧化。

4. 分离与洗涤

• 离心（8000～10000 rpm）或过滤，依次用甲苯/无水乙醇、乙醇/水洗涤至洗液无 MPTMS 气味（一般 3～5 次）。

• 重要：最终可用稀 HCl（0.01～0.1 M）短暂洗涤封闭残余 Si–OH，再用去离子水/乙醇洗去酸，减少未反应硅烷自聚残留。

5. 干燥

• 真空或 N₂ 氛围 40～60℃ 干燥过夜，得CeO₂@mSiO₂–SH（巯基功能化产物），密封避光保存。

注意事项

CeO₂@mSiO₂-MPTMS：内核 CeO₂，包覆介孔二氧化硅壳层，硅层表面共价接枝巯基硅烷 MPTMS，外露巯基活性基团。

CeO₂@壳聚糖

CeO₂@Au

CeO₂@Pd

mSiO₂@CeO₂

SiO₂@CeO₂

Fe₃O₄@mSiO₂@CeO₂

CeO₂@Pt

ZIF-8@CeO₂

CeO₂@SiO₂@TiO₂

Fe₃O₄@CeO₂@PDA

Au@CeO₂@mSiO₂

APTES 氨基修饰CeO₂@mSiO₂

MPTMS 巯基表面修饰CeO₂@mSiO₂

羧基硅烷修饰CeO₂@mSiO₂

CuO/ZnO纳米颗粒

SnO2/ZnO纳米颗粒

CeO2/ZnO纳米颗粒

Au/ZnO纳米颗粒