为晶体管的本征阻抗,描述放大能力
晶体管的跨导与寄生电容的比值,表示晶体管能放大信号的最高频率
每单位电流能提供的增益,反映了电流的效率
一、单管
/
的设计
1.主要设计思想:
由平方律关系:,只需要知道其中的三个
的两个就可以计算出第三个,为简化参数设计(晶体管工作饱和区),
,在
和L确定的情况下,
均正比于W,所以改变W,几乎不影响
和
所以固定时:
(1)/
来确定Vgs的上限
(2)/
(截止频率)和
来确定合适的
和
(3)最后根据平方律关系扫描W
二、 id不变,W和L对本征增益和截止频率以及跨导之间的关系
1.结论
| 本征增益 | 截止频率 | 跨导(效率) | |
| W/l增大,L不变 | 增大 | 减小 | 增大 |
| W/l不变,L增大 | 增大 | 减小 | 基本不变 |
注: W/L变大,L不变,W对本征增益,截止频以及跨导效率都没影响,Id固定,所以需要减小Vgs。
2 .证明所以改变W,几乎不影响![]()
和![]()
下面对W进行扫描:
(1)电路图中设置四个变量
(2) ADE L中先对变量赋值,再进行DC扫描,run后print查看详细参数
(3)Results Display Window中 OP("/NM0" “??”),将??改为对应参数名,写入到Setting Output中的Expression,并设置Name后,plot,即可再outputs中显示参数
(4) idc电流设置到out中
(4) 使用Parametric Analysis 对W进行扫描,分别设置变量名字,起始点,线性步长,步长大小进行扫描,将和
Send to New Window,进行查看
(5)结论: 由曲线可以看出,在W足够大(边界效应弱:)时,和
在VG以及L不变的情况下呈现出弱相关
3. 分析W,L,Vgs,对![]()
和
以及
的影响
(1)在output中先增加的值(另,上图中
的值设置成了
,现在开始修正为了
(2)在Parametric Analysis设置L和Vgs两个变量(谁当x轴,谁设置在下面)
(3)仿真完成后对结果进行分析:
(3.1)本征增益
随着
的增大而增大,随Vgs的增大而减小
且
∝
(3.2) 截止频率
(Ft)随Vgs的增大而增大,L的增大而减小
(3.3)电流效率
随着Vg的增大而减小,后期随L的变化区别不大(前期大的原因:Vth是450mV左右,刚开启处于亚阈值区,
正比于
)
三、 单管
设计示例(Vds还是要0.6,仅让mos管工作在饱和区)
1.实验方法
简洁版:看
,
放入到
和Ft里找适合的L和Vgs的范围,最后扫描W,找合适的Id
2. 详细步骤:
(1). 通过(8) 曲线首先确定
(<570mv),
(2). 用V将弄到对应的值,寻找满足条件的L,如果都不合适的话,可以增大L的扫描密度
我的显然在黄色线和绿色线之前,我选择增大L的扫描密度,显然只有绿色线和浅蓝色线满足,但是浅蓝色已经在30G的边缘了,使得Vgs的摆幅很小,所以我选择绿色的线(L=380nm)
(3)在根据绿色的线,在中
<570mv均满足,则在Ft中寻找Vgs的最小值,我的在0.5-0.57均满足,为减少亚阈值影响,我选择Vgs=570mv
(4)现在(已给量),均已确定,在变量中设置对应的数值,最后对W进行扫描看id曲线即可获得最后的参数,W=5.4um即可满足设计条件
(5)将W=5.4um 修改到参数列表,进行dc,回查是否满足设计条件
四、单端共源级放大器设计实例
1. 单管W,L,Vgs的确定
1.1前置知识补充:
带宽:>>C寄生电容 ,
主极点频率:
噪声: 热噪声闪烁噪声
1.2 操作方法
这部分跟(三)的实验方法一样:GBW和->
->
>
上线 ->
*
-> 合适的L和
的下限 ->W
1.3 具体步骤:
(1)由,计算的
>0.625 mS
由于热噪声与成反比,所以增大
对噪声进行降低,我们取
=0.7 mS(由于我第一次取gm为0.7,导致了后面增益一直到不到要求,所以选择了更大的gm,来增大L,使低频增益上升)
(2) 由> 7 可得
< 601 mV
( 3 ) 由>126dB, 我们选择L=1000n ,Vgs1=500mV
( 4 ) 将 L Vgs 和vd进行设置,对W进行扫描,看Id曲线,选择W=15.3u.
(5)进行参数验证
2. 在固定id,对本征增益,带宽以及噪声的分析
2.1 电路修改以及本征增益,带宽和噪声如何设置到OUT中
calculator计算带宽和gbw的表达式:
gain_dc =value(db(vfreq('ac "/net2")) 1000)
GBW =cross(db(vfreq('ac "/net2")) "0" 1 "either" nil nil nil)
2.1.1 现将电路修改到如下:![]()
2.1.2.进行ac仿真和noise 仿真
先进行如下配置
然后 Direct Plot Form 设置noise, input Noise V**2/HZ,将vg波形输出,然后send to calcultor,先 integ在sqrt进行开方
先进行仿真,看noise是否在范围内,若不在,通过降低Vg,增大W(面积)来减少噪声,并且重新扫描合适的W值
设置好以后在ADE L进行仿真,确保gan_dc和GBW在相应值中
3.将电流源替换成Pmos,如下图:
由于要增大的阻抗,来使直流增益接近M1的本征增益(L2>3L1且避免面积增大导致寄生电容的显著增加,L2<10L1)
增大Vgs->Id不变,减小gm(减少负载管的噪声电流).Vgs过大会导致摆幅减小。线性度变差,Vgs2<0.9V
我取L2=4.654u, vgs2=650mV,再对W扫描得到相应的参数,最终结果如下:
五、思考题
1. 提高低频增益:
(1.1)主要方法∝
,
∝ L1 ,
通常小于
,最后并联电阻由小的
决定
(1.2) 次要∝
2. 提高带宽
GBW=
(2.1)∝
(2.2) 减小M2的面积(M2面积过大,引起寄生电容显著增大,使得,不再成立,导致GBW降低)
3. 降低热噪声
(3.1) 增大gm1 等价于增大
(3.2) 减小gm2
4. 降低闪烁噪声
(3.1) 减小M1面积
(3.2) 增大, M2的闪烁噪声∝ 1/gm1
5.提高输出摆幅
< Vout <
(5.1) 增大(W/L)2, 由于Pmos的迁移率低于Nmos,所以同样的Id情况下需要更大的W/L,也导致了Vod2比Vov1要大,是制约摆幅的主要因素
(5.2)增大(W/L)1