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在上期的文章中我们介绍了PMMA，见文章：

《PMMA是光刻胶吗？》
本期，我们对PMMA的优缺点做一个探讨。

PMMA的优点与缺点？
优点
1，极高分辨率，能够实现亚10纳米的分辨率。其分子链容易被电子束分解。

2，成本较低：PMMA的生产成本远远低于UV光刻胶

3，适用于剥离工艺，PMMA易于溶解在特定溶剂中，因此常用于金属剥离工艺，能在电子束光刻后轻松去除掉，用于图形转移。

缺点

1，抗等离子体刻蚀能力差，不如大部分的UV系列光刻胶，尤其在干法刻蚀中与SiO2的选择比仅约为1:1。

2，热稳定性较低，在较高温度下容易软化或分解。

为什么PMMA的抗等离子体刻蚀能力比光刻胶差？

这个需要从二者的结构入手。
PMMA的分子链是直链，缺乏耐蚀性较强的环状结构或芳香族基团，等离子体刻蚀中常用的氧气、氟化气体等容易与PMMA的C-H和C-O键发生反应，使其分子链断裂，导致材料快速被去除。

而光刻胶的主体树脂是一般是含有苯环等结构的高分子材料，化学稳定性更强。

见文章：

《光刻胶的单体有哪些？》